咨詢熱線
18049905701
18049905701
當前位置：首頁 > 技術文章
實驗室等離子清洗機的核心功能，是利用等離子體的高能活性粒子，對材料表面進行物理轟擊和化學反應，實現表面污染物去除、表面活化、表面刻蝕等處理效果。其核心作用圍繞“微觀潔凈、表面改性、科研適配”展開，具體可分為三類：微觀污染物精準去除。這是最基礎的核心功能。它能去除材料表面的有機油污、殘留雜質、弱吸附塵埃等微觀污染物——這些污染物往往難以通過傳統清洗方式清除，卻會嚴重影響實驗精度。比如半導體晶片表面的有機殘留、生物載玻片的油污、高分子材料的表面雜質等，都能通過等離子體的氧化分解和...
7-25
等離子去膠機是用于去除物體表面膠水、殘留膠水、油污等污染物的設備。其原理基于等離子技術，通過引入高能量的等離子體產生方式進行清潔處理。等離子體是由帶電粒子組成的氣體，在加電場的作用下，氣體中的電子會被加速并與原子或分子碰撞，從而使電子獲得足夠的能量，并擊穿空氣形成電離的等離子體。等離子體具有高能量和強氧化性，在與物體表面接觸時，可以迅速將污染物分子打碎和氧化，實現有效地去除。等離子去膠機的主要工作原理如下：發生器：內部設有一個發生器，通過高頻電源提供電能，產生高能量的射頻電場...
7-18
等離子涂覆沉積設備是一種用于表面涂覆的高科技設備，它利用高能等離子體在材料表面形成保護層或功能薄膜。設備準備：a.將等離子涂覆沉積設備放置在穩定平臺上，并確保其與電源和氣源連接良好。b.打開設備的主電源，并檢查設備各個部分的工作狀態，確保其正常運行。c.檢查和校準設備的測量和監控系統，以確保其準確性和可靠性。樣品準備：a.準備待涂覆的樣品，并根據需要進行清潔和處理，以確保表面干凈、平整并去除雜質。b.安裝樣品架或夾具，在樣品架上放置待涂覆的樣品。確保樣品穩定且與設備的靶標正對...
7-12
臺式真空等離子清洗機是利用等離子態氣體對材料表面進行清洗。等離子是一種帶電的氣體粒子，可以通過加熱、輻射等方式產生。當氣體被加熱或受到強電場影響時，原子或分子會失去或獲得電子，形成正離子和負離子。這些帶電的氣體粒子可以與物體表面上的雜質和污染物發生碰撞，將其擊落或轉移至其他位置，從而實現清洗的效果。臺式真空等離子清洗機主要由以下幾部分組成：真空腔體：用于創建高真空環境的密封腔體。氣體供應系統：提供等離子需要的氣體，如氮氣、氧氣等。加熱系統：通過加熱腔體內的物體或通過加熱電極產...
6-15
等離子清洗機是一種廣泛應用于電子、半導體、光電和生物醫藥行業的設備，主要用于去除器件表面的有機污染物和無機雜質。在選購等離子清洗機時，需要考慮多個因素，并選擇適合自己需求的設備。1.清洗對象首先需要確定待清洗對象的大小、形狀以及材質等重要參數。不同類型和規格的等離子清洗機適用范圍不盡相同，在選購之前需要明確自己所需清理溫度、工作壓力與耐化學性能。對于小型零部件或者微觀結構組成復雜且難以處理的樣品，可以選擇氧氣/惰性氣體混合源加入到反應室中生成低溫CF4氟化劑來完成整體比較輕量...
6-13
國產等離子刻蝕機是一種用于制造半導體器件的設備，它通過利用等離子體的化學反應和物理作用來去除或保留微米級別的材料，并形成需要的結構。以下是該設備的詳細介紹。一、工作原理等離子刻蝕機通過將高頻電場加在氣體中，產生等離子體來去除或保留所需的微米級別的材料。當氣體被電離時，它會產生大量的正負離子，這些離子與表面上的物質相互作用，形成化學反應和物理作用，達到去除或保留的目的。二、設備組成國產等離子刻蝕機主要由以下幾個部分組成：1.真空系統：包括真空室、泵等，用于提供適合等離子體反應的...
6-7
隨著科技的不斷發展，越來越多的實驗室開始使用等離子清洗機來進行器械和設備清洗。等離子清洗機采用等離子體技術，可以高效地去除各種污垢和細菌，同時對設備造成的損傷也非常小。本文將介紹實驗室等離子清洗機的應用、工作原理以及其優勢。一、實驗室等離子清洗機的應用實驗室等離子清洗機廣泛應用于醫院、科研機構、生產廠家等領域，在以下方面得到了廣泛應用：醫療器械的清洗：如手術器械、吸管、注射器等；生產制造行業：如半導體制造、光學儀器加工、精密機械加工等；實驗室：如各種試劑瓶、玻璃器皿、操作臺等...
5-31
國產等離子清洗機是一種利用等離子體技術進行表面清洗的設備。其工作原理是在一個真空的環境中，通過放電將氣體轉化為等離子體，產生高能粒子和光子，對待清洗物表面進行清洗。在清洗時先將清洗物放入真空室中，降低壓強到相應的工作范圍。然后，通過加入惰性氣體來維持氣體壓力。接下來，在真空室中加入所需的氣體，并通過射頻高頻電場形成等離子體。等離子體中活性粒子與處理物表面之間發生化學反應，實現表面清洗。使用泵將等離子體排出并恢復氣體壓強至大氣壓力。國產等離子清洗機的清洗原理主要基于等離子體的化...
5-24
等離子刻蝕機是基于等離子體物理原理的微納加工設備，等離子體是由高能粒子(如電子)與氣體分子碰撞而產生的高能量、高密度的氣體態物質。工作時，首先將待加工材料置于真空室中，并通過高頻輻射場或外加電壓產生的放電使氣體分子形成等離子體。在等離子體的作用下，高能離子與反應氣體中的分子、原子相互作用，從而對材料表面進行化學反應或物理剝離，實現微小結構的制備與加工。根據剝離方式的不同，等離子刻蝕機被分為兩大類：濕法刻蝕和干法刻蝕。其中，常見的干法刻蝕方式是低溫等離子體刻蝕(LPE)、高功率...
5-18
等離子去膠機是一種環保的半導體制程前減薄過程中清洗化學機械研磨殘膠的設備，主要應用于集成電路制造業、光電子工業及液晶顯示器行業。等離子去膠機以氣體放電為驅動力，在實驗室里常用非惰性氣體，如純氧、氮和氦。經過電離處理而產生的活性物質，可以將表面染料分解為無毒性分子，去除表面膠片使得后續工序不會受到殘留雜質污染。等離子態(PlasmaState)，是由電子與離子(或大分子)相互作用產生的一種氣體。在等離子體狀態下，氣體分子中的部分或者全部電子和分子離開了原有結構，形成了大量的離子...
5-16
等離子清洗機是針對于高校，科學研究所和企業實驗室，或者小批量生產的創新性企業而研發的創新型實驗平臺。我們收集了大量客戶使用信息，分析應用需求，將多年設計和制造經驗應用于小型化，多功能的等離子體表面處理設備。無論是設計理念，零配件的選用，都傾注大量精力。針對用戶不同的需求，我們提供對應配件，在獲得常規性能的同時，擁有表面鍍膜(涂層)，刻蝕，等離子化學反應，粉體等離子體處理等多種能力。等離子清洗機是一種利用等離子體化學反應來清洗表面的設備，其使用效果受到多個因素的影響。清洗介質：...
公司地址：上海市康橋東路1369號C棟220
公司郵箱：1399511421@qq.com
在線咨詢
